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J-GLOBAL ID：201202238969064034   整理番号：12A0722925

Ta₂O₅/SiO₂の高反射鏡のフェムト秒レーザ損傷に及ぼすナノ秒レーザ予備照射

Effect of nanosecond laser pre-irradiation on the femtosecond laser-induced damage of Ta₂O₅/SiO₂high reflector

著者 (5件)： CHEN Shunli ,  ZHAO Yuan’an ,  LI Dawei ,  HE Hongbo ,  SHAO Jianda
資料名： Applied Optics  (Applied Optics)
巻： 51  号： 10  ページ： 1495-1502  発行年： 2012年04月01日 
JST資料番号： B0026B  ISSN： 1559-128X  CODEN： APOPAI  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子ビーム蒸着で製作した800nmの0°AOI Ta₂O₅/SiO₂の高反射鏡のフェムト秒レーザ損傷挙動に及ぼすナノ秒レーザ予備照射の効果を探索した。ビームオーバーラップがピークフルエンスの70%であるように走査速度を調整し,一対一モード走査を用いて,ラスタ走査によりレーザ予備照射を実行した。5Hz,1064nm,12nsのNd-YAG基本レーザを利用した。フェムト秒レーザ損傷は,1kHz 800nm 135fs一対一モードでのTi:サファイアレーザシステムにより試験された。ナノ秒レーザ予備照射が反射鏡のフェムト秒レーザ損傷閾値を促進しないことを示した。その代わりに,予備照射での多様なフルエンスステップで全サンプルの閾値が約20%減った。さらに,光学顕微鏡,SEMとAFMにより損傷形態を解析した。それは決定論的な場誘起の絶縁破壊特性を示した。これらの現象を説明するために,光イオン化,アバランシェイオン化,電子減衰を含む理論モデルを構築し,伝導帯での電子密度の発展をシミュレーションした。フェムト秒レーザ損傷プロセスを制御するために場電離機構を検討した。一方,ナノ秒レーザ予備照射により誘導された電子欠陥がフェムト秒レーザ損傷の発展を加速した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *レーザ損傷 ,  パルスレーザ ,  フェムト秒 ,  ナノ秒 ,  *パルスレーザ照射 ,  *反射鏡 ,  反射率 ,  酸化タンタル ,  酸化ケイ素 ,  サファイアレーザ ,  レーザシステム ,  電子ビーム蒸着 ,  光イオン化 ,  フルエンス ,  光学顕微鏡法 ,  フェムト秒レーザ
準シソーラス用語： オーバラップ ,  ナノ秒レーザ ,  理論モデル

分類 (2件)： 光デバイス一般  (BD06010L) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S)

タイトルに関連する用語 (5件)： Ta2O5 ,  SiO2 ,  フェムト秒レーザ ,  損傷 ,  ナノ秒レーザ