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J-GLOBAL ID：201202239084023566   整理番号：12A1368381

配列特異的ポリププトイド-ポリスチレンブロック共重合体薄膜の調製可能な表面性

Tunable Surface Properties from Sequence-Specific Polypeptoid-Polystyrene Block Copolymer Thin Films

著者 (4件)： VAN ZOELEN Wendy (Univ. California, California, USA) ,  ZUCKERMANN Ronald N. (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA) ,  SEGALMAN Rachel A. (Univ. California, California, USA) ,  SEGALMAN Rachel A. (Lawrence Berkeley National Lab., California, USA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 45  号： 17  ページ： 7072-7082  発行年： 2012年09月11日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： FmocRinkアミドポリスチレンレジンの脱保護基品(HRN...PS)をブロモ酢酸処理後,第一アミン(R′-NH₂)と反応させてR′NHCH₂C(O)N(R)...PSを形成するステップの反復で配列特異ペプトイドを調製し,TFA処理してレジンから切り離した(R=2-メトキシエチル,2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル,プロパルギル)。N-t-ブチル-O-[1-(4-クロロメチルフェニル)エチル-N-(2-メチル-1-フェニルプロピル)]ヒドロキシルアミン開始剤を用いたニトロキシド仲介ラジカル重合でクロリド末端ポリスチレンを得た。アジド末端ポリスチレンとしたのち,アルキン官能化ポリペプトイドとの反応でブロックコポリマを合成した。このMEK溶液をシリコンウエハにスピンコートしてポリマ薄膜を得,熱物性や表面性(NEXAFS,水接触角)を測定して疎水性,親水性モノマの量と配列の影響を調べた。

シソーラス用語： ペプチド合成 ,  固相合成 ,  ペプチド ,  *ポリスチレン ,  ブロック共重合 ,  *ブロック共重合体 ,  化学合成 ,  分子構造 ,  EXAFS ,  *表面構造 ,  高分子薄膜
準シソーラス用語： ニトロキシド仲介重合 ,  高分子構造 ,  組成依存性 ,  ペプチド固相合成 ,  *ペプトイド

分類 (3件)： 共重合  (CG04030D) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  ペプチド  (CF10080G)

物質索引 (3件)： N-tert-ブチル-N-(1-フェニル-2-メチルプロピル)-2-フェニル-4-[4-(アジドメチル)フェニル]ペンタン-1-アミン ,  N-(2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル)-N-アセチル-Gly-N-(2-メトキシエチル)-Gly-N-プロパルギル-Gly-NH₂ ,  N-(2-メトキシエチル)-N-(1-フェニルエチル)-N^α-(2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル)グリシンアミド

タイトルに関連する用語 (3件)： スチレンブロック共重合体 ,  薄膜 ,  調製