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J-GLOBAL ID：201202239514534454   整理番号：12A0820382

銀基板上の無電解ニッケル-ボロン膜の作製の制御方法

A Controllable Method of the Preparation of Electroless Nickel-Boron Films on Ag Substrate

著者 (3件)： CHENG Xin (SHANGHAI JIAO TONG UNIV., SHANGHAI, CHN) ,  RAO Qunli (SHANGHAI JIAO TONG UNIV., SHANGHAI, CHN) ,  YANG Hongzhen (SHANGHAI JIAO TONG UNIV., SHANGHAI, CHN)
資料名： Metal Finishing  (Metal Finishing)
巻： 110  号： 1  ページ： 22-26  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： D0049A  ISSN： 0026-0576  CODEN： MEFIA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銀の基板上への無電解ニッケル-ポロン薄膜の作製を制御する方法について検討した。まず,アルカリ溶液中の無電解ニッケルめっきの速度に影響する因子について調べた。溶液中の組成によって,めっき速度が明らかに異なっていることを示した。NiCl₂および還元剤の量が増えると,めっき速度が加速された。また,無電解ニッケル-ボロンめっき膜の組織は,めっき速度に関係していた。このため,主な塩,添加剤および還元剤の量を調整することにより,めっき速度を制御することができ,結晶や非晶質の膜が得られるとした。

シソーラス用語： *無電解めっき ,  *ニッケル合金 ,  ホウ素含有合金 ,  めっき液 ,  *加工速度 ,  塩化ニッケル ,  還元剤 ,  添加剤 ,  結晶 ,  非晶質 ,  基板 ,  銀

分類 (1件)： 無電解めっき  (WC08024S)

タイトルに関連する用語 (4件)： 銀 ,  無電解ニッケル ,  ボロン ,  作製