抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
ガラス製造業における炉からの放出ガスを管理することは非常に重要なことである。本稿では,著者の属する会社において4年間の使用実績のある低密度セラミックフィルタについて解説した。このフィルタはガラス製造炉から排出される粒状物質(PM),アンモニア,SOxおよびNOxを除去することを目的としており,260~400°Cの温度での動作が可能である。多孔質セラミックの開口細孔の壁面には触媒が埋め込まれ,PMは表面で浸透を制御され,ガス物質は触媒によって処理される。システム設計基準,ガラス用汚染物質制御,動作温度,配置上のオプションおよび立証された解について示した。