同位体標識技術を用いたNO存在下での希薄NOxトラップ(LNT)触媒の再生機構

PEREDA-AYO Benat; PEREDA-AYO Benat; GONZALEZ-VELASCO Juan R.; BURCH Robbie; HARDACRE Christopher; CHANSAI Sarayute

文献

J-GLOBAL ID：201202239562452729 整理番号：12A0025027

同位体標識技術を用いたNO存在下での希薄NOxトラップ(LNT)触媒の再生機構

Regeneration mechanism of a Lean NO _x Trap (LNT) catalyst in the presence of NO investigated using isotope labelling techniques

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資料名：
巻： 285 号： 1 ページ： 177-186 発行年： 2012年01月
JST資料番号： H0480A ISSN： 0021-9517 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

Pt-Ba/Al₂O₃希薄NOxトラップ(LNT)触媒の再生時にNOが存在すると蓄積された硝酸塩,特に窒素及びアンモニアの還元による生成物を大幅に変化させる。蓄積期間中に¹⁴NOを,再生時に¹⁵NOを供給する同位体標識技術を用いて,再生中質量の異なる,即ち,¹⁴N₂(m/e=28),¹⁴N¹⁵N(m/e=29)及び¹⁵N₂(m/e=30)を検知することによる窒素形成の三つの異なる生成経路を示した。ルート1の窒素形成は水素と蓄積組成から放出された¹⁴NOxとの反応による主に¹⁴NH₃の形成である。その後,アンモニアは¹⁴NOxと反応して¹⁴N₂を形成する。ルート2は,入ってきた¹⁵NOが水素と反応して,既に再生した反応ゾーンで¹⁵NH₃を形成すものである。この同位体標識アンモニアが蓄積した硝酸塩(¹⁴NOx)の還元で¹⁴N¹⁵Nを形成する再生先端に達するまで触媒床を移動していることが分かった。ルート3による¹⁵N₂の形成は,入ってきた¹⁵NOとH₂の反応で起こると見られているものである。再生中に供給する水素の濃度を変えると還元剤としてのH₂または¹⁵NH₃の相対的供給量に影響し,ルート1で¹⁴N₂及びルート2で¹⁴N¹⁵Nを生成することになることが分かった。Copyright 2011 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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酸化,還元 , 反応操作(単位反応) , 貴金属触媒 , 排ガス処理

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