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J-GLOBAL ID:201202239605320996   整理番号:12A0993916

シリコンナノ結晶発光デバイスの作製のための全ガス相法

An All-Gas-Phase Approach for the Fabrication of Silicon Nanocrystal Light-Emitting Devices
著者 (5件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 2822-2825  発行年: 2012年06月 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ナノ結晶ベースの発光デバイス作製のための全ガス相法を示す。単一の反応器中でシリコンナノ結晶の合成,表面機能化及び透明電極で被覆した基板への堆積を行う。デバイスは上部電極の蒸着により完了する。デバイスは,波長836nmに中心を持ち,ピークの外部量子効率が0.02%以上のエレクトロルミネセンスを示した。この全ガス相法により,電子デバイス応用に適した高密度,機能性のナノ結晶膜の制御性の良い堆積が可能である。
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分類 (2件):
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薄膜成長技術・装置  ,  半導体の結晶成長 
タイトルに関連する用語 (4件):
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