文献

J-GLOBAL ID：201202239708713309   整理番号：12A1718702

Ni(OH)₂薄膜の形態と電気化学的容量への蒸着温度と焼成温度の影響

Effects of deposition temperature and annealing temperature on the morphology and electrochemical capacitance of Ni(OH)₂ thin films

著者 (8件)： YANG Guangwu (China Univ. of Petroleum, Coll. of Sci., 266580, Qingdao, People’s Republic of China) ,  WU Yunqiang (Experiment and Test Res. Inst., 834000, Kalamay, People’s Republic of China) ,  WANG Baoli (China Univ. of Petroleum, School of Geosciences, 266580, Qingdao, People’s Republic of China) ,  GUO Wenyue (China Univ. of Petroleum, Coll. of Sci., 266580, Qingdao, People’s Republic of China) ,  REN Zhaoyan (Experiment and Test Res. Inst., 834000, Kalamay, People’s Republic of China) ,  BU Zhongheng (China Univ. of Petroleum, Coll. of Sci., 266580, Qingdao, People’s Republic of China) ,  MIAO Chengcheng (China Univ. of Petroleum, Coll. of Sci., 266580, Qingdao, People’s Republic of China) ,  LI Hulin (Lanzhou Univ., Coll. of Chemistry and Chemical Engineering, 730000, Lanzhou, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Solid State Electrochemistry  (Journal of Solid State Electrochemistry)
巻： 16  号： 12  ページ： 3761-3767  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： W1021A  ISSN： 1432-8488  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究で筆者らは,Ni(NO₃)₂水溶液からの直流蒸着によるNiフォームから調製した多孔性ナノ構造体の3D水酸化Ni(II)薄膜を報告する。Ni(OH)₂薄膜の形態への蒸着温度の影響を電界放射型走査電子顕微鏡によって調べ,Ni(OH)₂薄膜の電気容量性能に顕著な影響を与えることが分かる。また,Ni(OH)₂薄膜の電気化学的容量と長期安定性への焼成温度の影響を調べる。29°Cで蒸着して100°Cで焼成したNi(OH)₂薄膜に2,447faradsg^-1の最適比容量が得られる。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *電着 ,  *ニッケル化合物 ,  *水酸化物 ,  *薄膜成長 ,  *静電容量 ,  *温度 ,  多孔性 ,  走査電子顕微鏡 ,  電力コンデンサ ,  多孔質金属 ,  ニッケル
準シソーラス用語： *水酸化ニッケル ,  *焼成温度 ,  ナノ多孔性 ,  電界放射型走査電子顕微鏡 ,  電気化学キャパシタ

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ni ,  薄膜 ,  形態 ,  電気化学 ,  蒸着温度 ,  焼成温度