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J-GLOBAL ID：201202239772365667   整理番号：12A0713671

光損傷耐久性のあるMgO拡散を行った近化学量論的Ti:LiNbO₃ストリップ導波路

Optical-Damage-Resistant MgO-Diffused Near-Stoichiometric Ti:LiNbO₃ Strip Waveguides

著者 (6件)： HUA Ping-Rang (Tianjin Univ., Tianjin, CHN) ,  ZHANG Shuai (Tianjin Univ., Tianjin, CHN) ,  DONG Na (Tianjin Univ., Tianjin, CHN) ,  YU Dao-Yin (Tianjin Univ., Tianjin, CHN) ,  PUN Edwin Yue-Bun (City Univ. Hong Kong, HKG) ,  ZHANG De-Long (Tianjin Univ., Tianjin, CHN)
資料名： IEEE Photonics Technology Letters  (IEEE Photonics Technology Letters)
巻： 24  号： 5-8  ページ： 491-493  発行年： 2012年03月01日 
JST資料番号： T0721A  ISSN： 1041-1135  CODEN： IPTLEL  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニオブ酸リチウム(LN)導波路の作成で光屈折効果をおさえるために基板にMgOをドープするとき高濃度ドープを行うと性能が劣化する。実際,近化学量論的(NS)LNを作るには0.78mol%MgO以上の添加でよい。ここではTi及びMgO拡散により光損傷耐久性のあるNSTi:Mg:LNストリップ導波路を作成する方法を述べる。Mgイオンは均質に分布し,濃度は1.7±0.3mol%でしきい値をこえている。

シソーラス用語： *ニオブ酸リチウム ,  *光導波路 ,  ドーパント ,  化学量論 ,  チタン ,  酸化マグネシウム ,  *光屈折効果
準シソーラス用語： *ストリップ導波路

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光損傷 ,  MgO ,  拡散 ,  Ti ,  ストリップ導波路