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J-GLOBAL ID：201202239952583611   整理番号：12A0121701

粘性流管型反応器中の原子層堆積前駆体の反応と輸送の単純なモデル

Simple model for atomic layer deposition precursor reaction and transport in a viscous-flow tubular reactor

著者 (2件)： YANGUAS-GIL Angel (Energy Systems Div., Argonne National Lab., 9700 S Cass Avenue, Argonne, Illinois 60439) ,  ELAM Jeffrey W. (Energy Systems Div., Argonne National Lab., 9700 S Cass Avenue, Argonne, Illinois 60439)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 30  号： 1  ページ： 01A159  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子層堆積(ALD)薄膜の厚み均一性と共形性の決定において前駆体の反応と輸送は何れも極めて重要である。しかし,質量流量や前駆体反応度などの条件の変化がALD実験の結果に如何に影響するかを予想することはしばしば困難である。幾つかの洞察と指針を提供するために,粘性流ALD管型反応器中の前駆体の輸送と反応を記述する簡単な一次元モデルを開発した。単純化のために幾つかの仮定を行い,輸送問題が三種類の独立したパラメータ(Peclet数,Damkoeler数,過剰数)にのみ依存し,それらは大部分のALD工程に対して容易に計算できることを示した。単純であるにも係わらず,トリメチルアルミニウムとH₂Oを用いて堆積したALD Al₂O₃膜の厚みプロフィルに対する実験結果と非常に良い一致を見た。このモデルを適用して前駆体の性質と実験条件がALD時に得られた成長プロフィルと飽和曲線に及ぼす影響を調べ,非自己制限壁再結合の存在を示唆した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 管型反応器 ,  粘性流 ,  *化学蒸着 ,  *前駆体 ,  *モデル ,  反応 ,  輸送 ,  Peclet数 ,  無次元数 ,  曲線
準シソーラス用語： Damkoeler数 ,  *原子層堆積 ,  飽和曲線

分類 (1件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

物質索引 (1件)： トリメチルアルミニウム

タイトルに関連する用語 (6件)： 粘性流 ,  管型反応器 ,  原子層堆積 ,  前駆体 ,  輸送 ,  モデル