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J-GLOBAL ID：201202240476354305   整理番号：12A0430231

光開裂可能なブロック共重合体から官能化されたナノ多孔性薄膜

Functionalized Nanoporous Thin Films From Photocleavable Block Copolymers

著者 (5件)： SCHUMERS Jean-Marc (Univ. catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL) ,  VLAD Alexandru (Univ. catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL) ,  HUYNEN Isabelle (Univ. catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL) ,  GOHY Jean-Francois (Univ. catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL) ,  FUSTIN Charles-Andre (Univ. catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL)
資料名： Macromolecular Rapid Communications  (Macromolecular Rapid Communications)
巻： 33  号： 3  ページ： 199-205  発行年： 2012年02月13日 
JST資料番号： D0314B  ISSN： 1022-1336  CODEN： MRCOE3  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿では,3つの特筆すべき特徴,即ち,1)温和な条件下でのナノ細孔の創製,2)細孔壁上の化学官能基の制御とアクセシビリティ,そして3)その膜をパターン形成する可能性,を兼備する官能化されたナノ多孔性薄膜に対する強力な戦略について報告した。ブロック間で光開裂可能な接合を負荷しているポリスチレン-b-ポリ(エチレンオキシド)(PS-b-PEO)ブロック共重合体を使って,細孔壁上へ均一に分布されたカルボン酸基を有するナノ多孔性薄膜を形成した。フォトレジストとして作用する初期の光応答薄膜は,予定部位に選択的に空隙率を発生して容易にパターン形成可能であった。提案した戦略は,ブロック間に光開裂可能な接合(-hv-)を負荷するブロック共重合体(PEO₁₁₃-hv-PS₁₇₆)に基づいていた。その光開裂可能な接合は,カルボン酸用の保護基として有機化学およびペプチド合成に伝統的に使われたo-ニトロベンジルエステルであった。基板に垂直配向したPEO円筒を示す薄膜中に光開裂可能なブロック共重合体を自己集積した後,ブロック間の接合を開裂するためその薄膜を紫外光に暴露し,続いて選択溶媒によってPEO少量相を抽出してナノ細孔を創出した。斯様にして,ナノ細孔が均一にカルボン酸で覆われているナノ多孔性PSマトリックスを得た。これ等のカルボン酸基を使って,それらを蛍光染料と反応することで実証されている様に,更なる化学と機能付与を行うことができた。最後に,不均一なナノ多孔性材料をフォトリソグラフィーを使って容易にそして単刀直入に得ることができる,ことが分った。

シソーラス用語： *多孔性 ,  *高分子薄膜 ,  *ジブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  ポリエチレンオキシド ,  *フォトレジスト ,  *自己組織化 ,  *機能性高分子 ,  細孔 ,  壁 ,  官能化 ,  アクセシビリティ ,  パターン形成 ,  フラグメンテーション ,  空隙率 ,  官能基保護 ,  自己集合 ,  紫外線照射 ,  溶媒抽出 ,  蛍光染料 ,  フォトリソグラフィー ,  カルボキシ基 ,  *刺激応答性高分子
準シソーラス用語： カルボキシル基 ,  カルボン酸基 ,  ナノ細孔 ,  *ナノ多孔性 ,  ボイド率 ,  光開裂 ,  *刺激感受性高分子 ,  自己集積

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  高分子の分解,劣化  (CG03010A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光開裂 ,  ブロック共重合体 ,  官能化 ,  ナノ多孔性 ,  薄膜