電子線を用いた2-Cysペルオキシレドキシンのシャペロン活性の改善

HONG Sung Hyun; AN Byung Chull; LEE Seung Sik; LEE Jae Taek; CHO Jae-hyun; JUNG Hyun Suk; CHUNG Byung Yeoup

文献

J-GLOBAL ID：201202240631745561 整理番号：12A0877407

電子線を用いた2-Cysペルオキシレドキシンのシャペロン活性の改善

Improvement of chaperone activity of 2-Cys peroxiredoxin using electron beam

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資料名：
巻： 81 号： 8 ページ： 1020-1024 発行年： 2012年08月
JST資料番号： D0627A ISSN： 0969-806X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

Pseudomonas aerruginosa PAO1(PaPrx)中に発現したペルオキシレドキシン蛋白質は典型的な2-システインペルオキシレドキシンで,それはチオレドキシン依存のペルオキシダーゼとしてのものと,分子シャペロンとしてのもの二つの機能を有する。PaPrxの機能はその構造状態で調節できるので,本研究ではPaPrxの電子ビーム照射による構造変化の効果,さらにはPaPrxペルオキシダーゼとシャペロン機能のそれを調べる。PaPrxのシャペロン活性は照射しないものとの比較で2kGyで3から4倍になるが,そのペルオキシダーゼ活性は低下した。これはペルオキシダーゼとして働く低分子量PaPrx化学種からシャペロンとなる高分子量錯体へのシフトに対応しており,それはポリアクリルアミドゲル電気泳動で検出した。また疎水性や二次構造のような電子線の蛋白質の物理的性質への影響も調べた。照射に応じたPaPrxの疎水性領域の曝露は2kGyでピークに達し,より高い線量では低下する。それに加えて,PaPrx表面のβシートやランダムコイル要素の曝露は電子ビーム照射によりかなり増加するのに対して,αヘリックスとターン要素のそれは減少した。これらの結果は,照射PaPrxはその増強シャペロン活性のために生体工学系他の産業応用での使用の可能性があることを示唆している。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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その他の物質の放射線による構造と物性の変化 , 分子構造 , 生物学的機能

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