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J-GLOBAL ID：201202240947989705   整理番号：12A0269257

均質分子ビームエピタキシーにおける原子精度のSrTiO₃(110)薄膜のカチオンストイキオメトロリー最適化

Cation stoichiometry optimization of SrTiO₃ (110) thin films with atomic precision in homogeneous molecular beam epitaxy

著者 (8件)： WANG Zhiming (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...) ,  FENG Jiagui (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...) ,  YANG Yang (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...) ,  YAO Yuan (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...) ,  GU Lin (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...) ,  YANG Fang (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...) ,  GUO Qinlin (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...) ,  GUO Jiandong (Beijing National Lab. for Condensed Matter Physics and Inst. of Physics, Chinese Acad. of Sciences, Beijing 100190 ...)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 5  ページ： 051602  発行年： 2012年01月30日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： カチオン濃度比で決定したSrTiO₃(110)上の表面再構成の進展を研究し,最高800°Cの高温においてさえも高速電子回折(RHEED)により検出できることが分かった。SrTiO₃(110)薄膜の拡張均質酸化物分子ビームエピタキシー時に,SrとTi源の蒸発率は,RHEEDパターンをその場のリアルタイムでモニタリングすることにより,正確にキャリブレーションできる。高品質薄膜が0.5%以下のカチオンストイキオメトリーの偏差で得られた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *チタン酸ストロンチウム ,  薄膜 ,  *MBE成長 ,  ホモエピタクシー ,  表面再構成 ,  RHEED ,  ストロンチウム ,  チタン ,  カチオン ,  化学量論 ,  濃度 ,  その場観察 ,  監視 ,  イオン濃度
準シソーラス用語： リアルタイムモニタリング

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 分子ビームエピタキシー ,  原子 ,  薄膜 ,  最適化