文献

J-GLOBAL ID：201202241044687016   整理番号：12A0508090

田口メソッドでのTFT-LCDパネルのPI被覆プロセスの品質改善

The quality improvement of PI coating process of TFT-LCD panels with Taguchi methods

著者 (5件)： LIN Chern-sheng (Dep. of Automatic Control Engineering, Feng Chia Univ., Taichung, Taiwan) ,  SHIH Shun-jen (AU Optronics Corp., Taichung, Taiwan) ,  LU An-tsung (Electrical and Communications Engineering, Feng Chia Univ., Taichung, Taiwan) ,  HUNG San-shan (Dep. of Automatic Control Engineering, Feng Chia Univ., Taichung, Taiwan) ,  CHIU Chuang-chien (Dep. of Automatic Control Engineering, Feng Chia Univ., Taichung, Taiwan)
資料名： Optik  (Optik)
巻： 123  号： 8  ページ： 703-710  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： D0251A  ISSN： 0030-4026  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,TFL-LCD(薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ)パネルのPI(ポリイミド)被覆プロセスの品質を改良するために,田口メソッドを適用した。それは,チップ加工での洗浄機械ブラシ圧痕の調整による収率低下を改善した。最低原価で最高のプロダクト品質を達成するために,田口メソッドにより最適なプロセス条件を得た。印刷アラインメント膜での欠陥に基づいて,田口実験の多様な条件が品質に及ぼす影響を実験的に検討した。光学的検査機械でFourier解析を実行して,アラインメント膜層の堆積での欠陥を決定した。本研究は,田口メソッドを使用し,アラインメント膜の印刷プロセスのパラメータと製造収率を改良し,低NGと高線修復確率を実現するだけでなく,セル粒子誘導長期プロダクトスクラップレベルを0.2%以下に制御した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *液晶ディスプレイ ,  *薄膜トランジスタ ,  田口メソッド ,  ポリイミド ,  被覆 ,  品質管理 ,  *誘電体薄膜 ,  チップ化 ,  アラインメント
準シソーラス用語： *TFT-LCD ,  チップ加工

分類 (3件)： ネマチック相  (BK03020W) ,  トランジスタ  (NC03070N) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (5件)： 田口メソッド ,  TFT-LCD ,  pI ,  プロセス ,  品質改善