文献

J-GLOBAL ID：201202241836566852   整理番号：12A0645677

二段階照射によるテーラードナノゲルの合成

Synthesis of tailored nanogels by means of two-stage irradiation

著者 (6件)： KADLUBOWSKI Slawomir (Inst. of Applied Radiation Chemistry, Technical Univ. of Lodz, Wroblewskiego 15, 93-590 Lodz, POL) ,  KADLUBOWSKI Slawomir (European Centre of Bio- and Nanotechnology, Technical Univ. of Lodz, Zeromskiego 116, 90-924 Lodz, POL) ,  ULANSKI Piotr (Inst. of Applied Radiation Chemistry, Technical Univ. of Lodz, Wroblewskiego 15, 93-590 Lodz, POL) ,  ULANSKI Piotr (European Centre of Bio- and Nanotechnology, Technical Univ. of Lodz, Zeromskiego 116, 90-924 Lodz, POL) ,  ROSIAK Janusz M. (Inst. of Applied Radiation Chemistry, Technical Univ. of Lodz, Wroblewskiego 15, 93-590 Lodz, POL) ,  ROSIAK Janusz M. (European Centre of Bio- and Nanotechnology, Technical Univ. of Lodz, Zeromskiego 116, 90-924 Lodz, POL)
資料名： Polymer  (Polymer)
巻： 53  号： 10  ページ： 1985-1991  発行年： 2012年04月25日 
JST資料番号： D0472B  ISSN： 0032-3861  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 独立して選択した重量平均分子量(M_w)および線状高分子と水のみからなる無添加物系における広がりの高分子ナノゲルを合成できる新規方法を記述し,試験した。この方法は二段階で構成され,無酸素重合体溶液にイオン化照射を用いたフリーラジカルの生成に基づいた。最初の段階において,定常状態で鎖あたりのラジカルの平均数<1となるように半濃厚重合体溶液を適度な線量率で照射した。これはM_wとコイル広がりの増加に伴って分子間架橋を促進した。所望のM_wに達した場合,第二段階の分子内再結合が希薄溶液のパルス照射によって誘起され(各パルス後の鎖あたりのラジカルの平均数>1),ナノゲルの直径の減少をもたらす一方,M_wはほぼ一定に保たれた。モデル重合体-ポリ(N-ビニルピロリドン)-に関する実験データから,提示した方法により単量体の使用,架橋剤または外の補助物質を排除した,純粋な重合体-水系における所望の性質(独立して選択した分子量と回転半径)のナノゲルの合成が可能なことを確認した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ゲル ,  ポリビニルピロリドン ,  分子量 ,  慣性半径 ,  γ線照射 ,  *放射線架橋 ,  放射線分解 ,  ラジカル反応
準シソーラス用語： *ナノゲル

分類 (1件)： 放射線高分子化学  (CG03050S)

タイトルに関連する用語 (1件)： 段階