文献

J-GLOBAL ID：201202243200390781   整理番号：12A0339414

電気伝導性の自律修復

Autonomic Restoration of Electrical Conductivity

著者 (7件)： BLAISZIK Benjamin J. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  KRAMER Sharlotte L. B. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  GRADY Martha E. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  MCILROY David A. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  MOORE Jeffrey S. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  SOTTOS Nancy R. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  WHITE Scott R. (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 24  号： 3  ページ： 398-401  発行年： 2012年01月17日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子回路が損傷を受けたときに同時に破断し,Ga-In共晶合金(融点16°C)を放出して電気伝導性を即座に回復するマイクロカプセル埋め込み法を開発した。電子回路モデルとしてガラス基板上に金パターンとエポキシ樹脂層とを積層し,金と接触してGa-In/尿素-ホルムアルデヒドマイクロカプセル(長軸方向の長さ100μmの楕円球体)を埋め込み,人為的に亀裂を作製した。亀裂部分の電気伝導率は高い確率で極めて速く電気伝導性を回復した。

シソーラス用語： *回復 ,  *修理 ,  *電子回路 ,  金 ,  マイクロカプセル ,  電気伝導 ,  共晶合金 ,  ガリウム合金 ,  インジウム含有合金
準シソーラス用語： *自己修復

分類 (3件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (3件)： 電気伝導性 ,  自律 ,  修復