文献
J-GLOBAL ID:201202243392320625   整理番号:12A0895587

APFプラズマフォーカス装置における集束時間パラメータに対する処理ガス混合物、印加電圧と圧力の影響

The Effect of Working Gas Admixture, Applied Voltage and Pressure on Focusing Time Parameter in the APF Plasma Focus Device
著者 (3件):
資料名:
巻: 31  号:ページ: 227-233  発行年: 2012年06月 
JST資料番号: E0587B  ISSN: 0164-0313  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)

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