TiO<sub>2</sub>による光触媒処理における廃水のスルホンアミド除去及び抗菌活性低減に対するFeCl<sub>3</sub>の効果

ADAMEK Ewa; BARAN Wojciech; ZIEMIANSKA Justyna; SOBCZAK Andrzej; SOBCZAK Andrzej

文献

J-GLOBAL ID：201202243457823999 整理番号：12A1312279

TiO₂による光触媒処理における廃水のスルホンアミド除去及び抗菌活性低減に対するFeCl₃の効果

Effect of FeCl₃ on sulfonamide removal and reduction of antimicrobial activity of wastewater in a photocatalytic process with TiO₂

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資料名：
巻： 126 ページ： 29-38 発行年： 2012年09月25日
JST資料番号： W0375A ISSN： 0926-3373 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

本研究の目的は,市販TiO₂触媒(Degussa Aeroxide P25),FeCl₃及びTiO₂/FeCl₃の混合物の存在下で実施した光触媒プロセスによる実際の廃水サンプルにおけるスルホンアミド(SN)の分解を研究することである。蒸留水,合成下水,都市下水(生のもの及び処理後のもの),汚水処理タンク及び埋立地浸出液からの廃水中のスルファジアジン,スルファメトキサゾール及びスルファチアゾールを含有する混合物の光分解速度を本研究において比較した。またSNと光分解生成物を含有するサンプルの抗菌活性の変化をMARA試験によって評価した。SNの光触媒分解速度は主に環境汚染度,触媒系の組成及びpH値に依存することが観察された。埋立地浸出液中ではSNの光分解は実際上進行しなかった。このプロセスの阻害要因は主として可溶性廃水成分であった。SNの分解生成物は反応媒質の抗菌活性の向上をもたらさなかった。SNの最高の光分解効率は,pH約3.0でTiO₂(~0.5gl^-1)とFeCl₃(~0.5mmoll^-1)を含有する混合物を用いた時に得られた。検討したサンプルのSN値の半減期に基づいて推定したこの触媒系の活性は,TiO₂のみの場合よりも約4.5倍大きかった。pH約3における高い活性は両方の光触媒成分の相乗効果によるのではなく,主として酸性媒体中の他の廃水成分の解離度の低下に起因するのである。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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光化学反応 , 下水,廃水の化学的処理

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