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J-GLOBAL ID：201202243795634018   整理番号：12A0994022

三次元微細構造の集中イオンビーム加工を用いた生産用の予測発散補正手法

A predictive divergence compensation approach for the fabrication of three-dimensional microstructures using focused ion beam machining

著者 (4件)： SUN J (Heriot-Watt Univ., Edinburgh, GBR) ,  LUO X (Heriot-Watt Univ., Edinburgh, GBR) ,  RITCHIE J (Heriot-Watt Univ., Edinburgh, GBR) ,  HRNCIR T (TESCAN, Brno, CZE)
資料名： Proceedings of the Institution of Mechanical Engineers. Part B. Journal of Engineering Manufacture  (Proceedings of the Institution of Mechanical Engineers. Part B. Journal of Engineering Manufacture)
巻： 226  号： 2  ページ： 229-238  発行年： 2012年02月 
JST資料番号： E0712A  ISSN： 0954-4054  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近の集中イオンビーム(FIB)フライス加工を用いた一部の切削工具で三次元微細構造を彫刻する研究例の増加に応じて,FIBフライス加工工程での生産の発散を引き起す原因となる主要な因子を検討した。発散の補償には,補正滞留時間を計算し,FIBフライス加工工程で生じる発散を許容する;これはオーバーラップの影響と角度依存スパッタ発生量によるものである。多パス走査法を用いて,原子の再付着により析出した生産の発散を低下させた。放物形,半球形,正弦波形,ナノ半球形などの微細構造物を,通常のビットマップフライス加工を用いたFIBフライス加工実験中に作り出し,発散補償手法を提案した。通常のビットマップFIBフライス加工手法を使用したとき,平坦な頂部/底部表面を凸/凹構造中に得た。その平坦な頂部/底部現象を,FIB加工に先立ち基板面から酸化層の除去と新発散補償手法の組合せを用いて除去できる。実験結果,この方法の使用で表面形状精度を大幅に改善でき,オーバーラップの影響を基準のピクセル間隔の選択で抑制可能なことを示した。

シソーラス用語： *イオンビーム加工 ,  *微細構造 ,  フライス加工 ,  滞留時間 ,  スパッタ【欠陥】 ,  酸化層 ,  *形状精度

分類 (2件)： 特殊加工  (QC04000Y) ,  曲板  (HD03070K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 微細構造 ,  イオンビーム加工 ,  予測 ,  発散 ,  手法