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J-GLOBAL ID：201202243832496135   整理番号：12A1610884

C₂₀へヒドロキシルラジカル(OH)の付加に関する密度汎関数理論(DFT)検討

Density Functional Theory (DFT) Study on the Addition of Hydroxyl Radical (OH) to C₂₀

著者 (3件)： IYAMA Tetsuji (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  ABE Shigeaki (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  TACHIKAWA Hiroto (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
資料名： Molecular Crystals and Liquid Crystals  (Molecular Crystals and Liquid Crystals)
巻： 567  ページ： 402-408  発行年： 2012年 
JST資料番号： B0877A  ISSN： 1542-1406  CODEN： MCLCE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本検討では,密度汎関数理論(DFT)法を,ヒドロキシルラジカル(OH)と最小フラーレンC₂₀の相互作用システムへ適用した。C₂₀へのラジカル付加反応を,ポテンシャルエネルギー計算を使って検討した。その結果,DFT計算から,OHラジカルがC₂₀の炭素原子に直接結合し,強いC-O結合が生成される,ことが分った。最初のOHラジカル付加の結合エネルギーを計算し,B3LYP/6-311G(d,p)レベルの理論では85.2kcal/モルであった。二番目のラジカル付加では,C₂₀OHへのOHの結合エネルギーは91.5kcal/モルであった。不対電子がC₂₀(OH)錯体中のC₂₀表面上へ広範囲にわたって分布されていた。

シソーラス用語： *フラーレン ,  *ヒドロキシルラジカル ,  *ラジカル反応 ,  *付加反応 ,  *密度汎関数法 ,  超微粒子 ,  *超微細相互作用 ,  ポテンシャルエネルギー ,  エネルギー計算 ,  C-O結合 ,  結合エネルギー ,  不対電子 ,  分布 ,  表層
準シソーラス用語： B3LYP法 ,  *フラーレンC20 ,  *ラジカル付加 ,  *超微細粒子 ,  電子分布 ,  *密度汎関数理論

分類 (4件)： 付加反応,脱離反応  (CF02030M) ,  光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A) ,  数値解析,近似法  (AB04000F) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (3件)： ヒドロキシルラジカル ,  密度汎関数理論 ,  DFT