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J-GLOBAL ID：201202244535038710   整理番号：12A1598123

損失低減により設計された高コントラストスーパーレンズリソグラフィー

High Contrast Superlens Lithography Engineered by Loss Reduction

著者 (9件)： LIU Hong (Inst. Materials Res. and Engineering, Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore) ,  WANG Bing (Inst. Materials Res. and Engineering, Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore) ,  KE Lin (Inst. Materials Res. and Engineering, Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore) ,  DENG Jie (Inst. Materials Res. and Engineering, Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore) ,  CHOY Chan Chum (Inst. Materials Res. and Engineering, Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore) ,  ZHANG Ming Sheng (Data Storage Inst., Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore) ,  SHEN Lu (Inst. Materials Res. and Engineering, Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore) ,  MAIER Stefan A. (Imperial Coll. London, London, GBR) ,  TENG Jing Hua (Inst. Materials Res. and Engineering, Agency for Sci. Technol. and Res.(A*STAR), Singapore)
資料名： Advanced Functional Materials  (Advanced Functional Materials)
巻： 22  号： 18  ページ： 3777-3783  発行年： 2012年09月25日 
JST資料番号： W1336A  ISSN： 1616-301X  CODEN： AFMDC6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 回折限界以下の分解能がスーパーレンズにより達成できるが,レジストコントラストはフォトリソグラフィーに最低必要なものよりも低い。本研究では,散乱損失を低減するために界面粗さを精緻化した薄い平坦な銀スーパーレンズが,約2.2の高いコントラストと50nm以下の分解能を与えることを明らかにした。35nm厚さのAg薄膜を,電子ビーム蒸着により作製した。1nmのNiあるいはGeシード層上に堆積したAg膜も作製した。波長365nmにおけるスーパーレンズ性能に対するシード層の影響を,実験および有限差分時間領域法によるシミュレーションにより調べた。シミュレーション予測は,Ag,Ag/NiおよびAg/Geスーパーレンズの実験結果と良い一致を示した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *レンズ ,  コントラスト ,  表面粗さ ,  薄膜 ,  銀 ,  周期構造 ,  電子ビーム蒸着 ,  分解能 ,  光学的性質
準シソーラス用語： *スーパーレンズ

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (2件)： 損失低減 ,  設計