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J-GLOBAL ID:201202244854158906   整理番号:12A1514812

ナノスケール三酸化モリブデン(MoO3)薄膜を用いた液晶素子の電気光学特性

Electro-Optical Characteristics of Liquid Crystal Device With Nanoscale Molybdenum Trioxide (MoO3) Thin Films
著者 (7件):
資料名:
巻: 33  号: 10  ページ: 1423-1425  発行年: 2012年10月 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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イオンビーム(IB)照射による三酸化モリブデン(MoO3)薄層の液晶(LC)アラインメントは,ラビングされたポリイミド(PI)層で得られる特性に勝るLCアラインメント特性が得られる。薄MoO3層上のLCアラインメント状態はIB照射エネルギーを変えることにより影響されることがわかった。X線電気光学分光解析の結果,2400eV以上IB照射エネルギーにおいてMoピークの結合強度が大幅に減少することは,LCとMoO3分子による均一な整列が可能あることを示した。IB照射エネルギー2400-3000eVにおいて,MoO3薄膜の均一なアラインメント状態が得られた。この結果により,LCディスプレイセルのLC分子はMoO3薄膜上で均一に整列していることが確認された。
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分類 (2件):
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表示機器  ,  半導体集積回路 
タイトルに関連する用語 (5件):
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