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J-GLOBAL ID:201202246358443091   整理番号:12A0202504

マグネトロンスパッタリングによって蒸着された窒素ドープ型ZnOフィルムの特性に及ぼす酸素分圧の影響

Influence of oxygen partial pressure on properties of N-doped ZnO films deposited by magnetron sputtering
著者 (7件):
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巻: 20  号: 12  ページ: 2326-2330  発行年: 2010年 
JST資料番号: W0396A  ISSN: 1003-6326  CODEN: TNMCEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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窒素ドープ型ZnOフィルムをガラス基板上に無線周波数(RF)スパッタリングして,3.0×10(-4)から9.5×10(-3)Paまで変動する酸素分圧(OPP)の関数として研究した。X線回折パターンは蒸着されたフィルムの多結晶性質を確認した。この結晶構造はOPPの変化によって影響を受けた。原子間力顕微鏡法解析は,OPPが1.4×10(-3)Pa以上に増加するとき,2乗平均平方根(RMS)表面粗さの鋭い増加による近隣の球状の結晶の凝集を確認した。X線光電子分光法解析は,このフィルムへのN含有量の取り込みがOPPの増加とともに低下して,顕著に,N1sのXPSピークが9.5×10(-3)Paでほとんど同定されないことが明らかになった。平均可視透過率(380~700nm)は,OPP(17%から70%まで)の増加とともに増大して,光学的吸収端は短波長の方へシフトした。低いOPP(≦3.0×10(-4)Pa)によって蒸着されたフィルムはn型導電性を示して,高いOPP(≧9.0×10(-4)Pa)によって蒸着されたものは高度な抵抗(>105Ωcm)を有した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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酸化物薄膜 
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