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J-GLOBAL ID：201202246477815835   整理番号：12A0582499

二次元高分子をマスクとする表面ナノパターン形成

Two-Dimensional Polymer as a Mask for Surface Nanopatterning

著者 (8件)： CLAIR Sylvain (Aix-Marseille Univ, Marseille, FRA) ,  CLAIR Sylvain (IM2NP, CNRS, Marseille, FRA) ,  OURDJINI Oualid (Aix-Marseille Univ, Marseille, FRA) ,  OURDJINI Oualid (IM2NP, CNRS, Marseille, FRA) ,  ABEL Mathieu (Aix-Marseille Univ, Marseille, FRA) ,  ABEL Mathieu (IM2NP, CNRS, Marseille, FRA) ,  PORTE Louis (Aix-Marseille Univ, Marseille, FRA) ,  PORTE Louis (IM2NP, CNRS, Marseille, FRA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 24  号： 9  ページ： 1252-1254  発行年： 2012年03月02日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 超高真空条件で銀(100)単結晶面上に塩化ナトリウム微結晶を蒸着し,続いて1,4-ベンゼンジボロン酸を蒸着した。550K加熱により塩化ナトリウムを昇華させ,EB蒸着により鉄パターンを形成した。500Kでポストアニーリング透過型走査電子顕微鏡によりキャラクタリゼーションを行った。鉄ナノ粒子は塩化ナトリウム昇華跡から成長して高分子膜の下まで拡大し,被覆率の増大に伴って高分子ナノリボンが押し上げられた。

シソーラス用語： *高分子膜 ,  マスク ,  ナノ構造 ,  *パターン形成 ,  超高真空 ,  銀 ,  単結晶 ,  結晶面 ,  *塩化ナトリウム ,  微結晶 ,  *蒸着 ,  *昇華 ,  電子ビーム蒸着 ,  鉄 ,  結晶成長 ,  透過型走査電子顕微鏡 ,  被覆率 ,  ナノ粒子 ,  リボン結晶
準シソーラス用語： ナノパターン形成 ,  ナノリボン

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  高分子担体・触媒反応  (CG03030W)

物質索引 (1件)： p-フェニレンジボロン酸

タイトルに関連する用語 (3件)： 高分子 ,  マスク ,  ナノパターン形成