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J-GLOBAL ID：201202246611477011   整理番号：12A0274657

銅挿入メソ多孔性アルミナ研磨剤の調製,およびハードディスク基板上のそれのCMP挙動

Preparation of copper-incorporated mesoporous alumina abrasive and its CMP behavior on hard disk substrate

著者 (3件)： LEI Hong ,  JIANG Lei ,  CHEN Ruling
資料名： Powder Technology  (Powder Technology)
巻： 219  ページ： 99-104  発行年： 2012年03月 
JST資料番号： B0730A  ISSN： 0032-5910  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学機械研磨(CMP)性能を改善するために,銅挿入メソ多孔性アルミナ研磨剤をゾル-ゲル法で合成した。X線回折(XRD),透過型電子顕微鏡(TEM)および窒素吸着分析が,調製したメソ多孔性研磨剤がナノスケール細孔径および均一な細孔径分布を持つ高規則化メソ構造を有することを示した。ハードディスク基板上ののメソ多孔性研磨剤のCMP性能を調べた。結果から,純アルミナおよび固体アルミナに比較して,銅挿入メソ多孔性アルミナ研磨剤はずっと大きな材料除去速度(MRR)を有した。多孔性アルミナ研磨剤(メソ多孔性アルミナまたは銅挿入メソ多孔性アルミナ)によって研磨したハードディスク表面は,固体アルミナで研磨したものよりも,ずっと低い形態変動および表面粗度(Ra)を有した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アルミナ ,  多孔性 ,  *銅 ,  *研磨剤 ,  磁気ディスク ,  化学研磨 ,  粗度 ,  細孔径 ,  細孔径分布 ,  形態 ,  化学機械研磨
準シソーラス用語： ハードディスク ,  メソ多孔性

分類 (2件)： 研削  (QC03000R) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 銅 ,  メソ多孔性 ,  アルミナ ,  研磨剤 ,  調製 ,  ハードディスク基板 ,  CMP ,  挙動