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J-GLOBAL ID：201202246779511401   整理番号：12A1145182

最新の測定法とガス浄化器歩留りの改善

Advanced Metrology and Gas Purifier Yield Improvement

著者 (1件)： SRIVASTAVA Abneesh (Entegris, Inc., CA, USA)
資料名： IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop  (IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference and Workshop)
巻： 23rd  ページ： 161-164  発行年： 2012年 
JST資料番号： W0718A  ISSN： 1078-8743  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大気圧イオン化四重極質量分析,亜大気圧キャビティリングダウン分光法,APIMS試験マニホロールドを用い,水分測定用スペクトル測定及び分光測定法に基づいて不活性ガス(窒素と希ガス)及び水素純化器の性能を特性化した。再生可能な媒質上への汚染物質の効率的な吸収に関与する材料の特性を系統的に調べ,純化器の除去能力と効率を顕著に改善できた。水分乾燥,動揺回復時間,純度安定性及び低圧純度の改善と半導体プロセスの改良に寄与できる。

シソーラス用語： 四重極質量分析 ,  空洞内レーザ分光法 ,  不活性ガス ,  *浄化 ,  水素 ,  窒素 ,  希ガス ,  キャラクタリゼーション ,  性能評価 ,  *半導体プロセス
準シソーラス用語： *ガス浄化 ,  測定法 ,  大気圧 ,  歩留り向上

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 測定法 ,  浄化器 ,  歩留り