文献

J-GLOBAL ID：201202246816111079   整理番号：12A1123455

コロイド状スプレー析出により調製されたパラジウムフイルムの水素透過性状

Hydrogen transport properties of palladium film prepared by colloidal spray deposition

著者 (5件)： LEE Tae H. (Energy Systems Div., Argonne National Lab., Argonne, IL 60439, USA) ,  PARK Chan Y. (Energy Systems Div., Argonne National Lab., Argonne, IL 60439, USA) ,  LEE Geunhee (Materials Sci. Div., Argonne National Lab., Argonne, IL 60439, USA) ,  DORRIS Stephen E. (Energy Systems Div., Argonne National Lab., Argonne, IL 60439, USA) ,  (BALU) BALACHANDRAN U. (Energy Systems Div., Argonne National Lab., Argonne, IL 60439, USA)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 415-416  ページ： 199-204  発行年： 2012年10月01日 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パラジウムフイルムを新しいコロイド状スプレー析出法により成形した。厚み5-11μmの高密度で亀裂の無いPdフイルムがポーラスイットリア安定化ジルコニア(YSZ)基板上に成功裏に細孔サイズ3-7μmで成形された。走査電子顕微鏡はフイルムが均一な厚みを持ち,基板に良く結合したことを示した。Pdフイルムの表面は良く結晶したプレート状の直径2-4μmの直径の粒子から構成され,粗い組織であった。シンターされたPdフイルムのX線回折パターンは(111)優先結晶配向を示した。シンターしたPdフイルムの水素透過性状を330-530°Cの温度で調べた。厚み5-11μmの支持Pdフイルムの水素パーミエーションはバルク金属を通した水素の拡散と支持体を通したガス相透過率の両方により制約された。基板を通したガス相透過の抵抗は基板の厚みを減らすことによって大きく減少した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *コロイド ,  *溶射 ,  調製 ,  *金属薄膜 ,  パラジウム ,  *水素 ,  *膜透過 ,  膜厚 ,  密度 ,  多孔質体 ,  セラミック ,  酸化イットリウム ,  酸化ジルコニウム ,  基板 ,  細孔径 ,  焼結 ,  結晶方位 ,  細孔内拡散 ,  支持物 ,  透過率 ,  無機分離膜
準シソーラス用語： *パラジウム膜 ,  高密度 ,  イットリア安定化ジルコニア

分類 (3件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  溶射  (WC08030N)

タイトルに関連する用語 (5件)： コロイド ,  スプレー ,  析出 ,  調製 ,  水素透過性