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J-GLOBAL ID:201202246958953840   整理番号:11A1959164

化学機械研摩での対流と磁場を考慮したモデルと数値シミュレーション

THE MODELS BY CONSIDERING MAGNETIC FIELD AND CONVECTION OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND THEIR NUMERICAL SIMULATIONS
著者 (3件):
資料名:
巻: 42  号:ページ: 1060-1067  発行年: 2010年 
JST資料番号: C2420A  ISSN: 0459-1879  CODEN: LHHPAE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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化学機械研摩(CMP)は,最先端超精密加工技術で最も有望な技術である。本論文では,最初に,対流効果のCMPモデルを導出した。パラメータを変えて,圧力分布を研究した。次に,磁気流体スラリと外部磁場を考慮したCMPのモデルを検討した。外部磁場での圧力分布を研究した。数値結果を示した。対流モデルでの圧力分布は,既知の経験的結果と一致した。常圧以下CMPを効率的に説明した。外部磁場で圧力分布を効率的に変えることができた。ウエハの大域的平坦化の新しい方法を示した。
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分類 (2件):
分類
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電磁流体力学  ,  特殊加工 
タイトルに関連する用語 (5件):
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