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J-GLOBAL ID：201202247498260392   整理番号：12A1390706

高速フレーム溶射によるWC-Co-Cr皮膜の残留応力に及ぼすプロセシングパラメータの影響

Influence of Processing Parameters on Residual Stress of High Velocity Oxy-Fuel Thermally Sprayed WC-Co-Cr Coating

著者 (5件)： GUI M. (Messier-Dowty Inc., Dep. of Manufacturing Engineering, Toronto, ON, CAN) ,  EYBEL R. (Messier-Dowty Inc., Dep. of Materials and Process, Toronto, ON, CAN) ,  ASSELIN B. (Messier-Dowty Inc., Dep. of Manufacturing Engineering, Toronto, ON, CAN) ,  RADHAKRISHNAN S. (Messier-Dowty Inc., Dep. of Manufacturing Engineering, Toronto, ON, CAN) ,  CERPS J. (Messier-Dowty Inc., Dep. of Manufacturing Engineering, Toronto, ON, CAN)
資料名： Journal of Materials Engineering and Performance  (Journal of Materials Engineering and Performance)
巻： 21  号： 10  ページ： 2090-2098  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： C0161B  ISSN： 1059-9495  CODEN： JMEPEG  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸素流れ,燃料ガス水素流れ,粉末供給速度,スタンドオフ距離および基板表面速度の5因子を用いた実験計画法(DOE)に基づき,高速フレーム(HVOF)溶射WC-10Co-4Cr皮膜の残留応力を調べた。それぞれのDOEプログラム実行において,炎中の飛行中粒子速度と温度および基板温度を測定した。AlmenタイプNストリップを被覆し,被覆後のそれらのたわみを用いて皮膜中の残留応力レベルを評価した。すべてのDOEプログラム実行で得られた皮膜中の残留応力は圧縮である。今回のHVOF溶射皮膜の場合,残留応力はピーニング,焼入れおよび溶射あるいは溶射後に生じる冷却応力の3種類の応力で決定される。皮膜中の最終圧縮残留応力に対する各タイプの応力の寄与は,皮膜および基板の材料の性質,飛行中粒子速度と温度および基板温度に依存する。スタンドオフ距離が皮膜中の最終残留応力に影響を及ぼす最も重要な因子であり,酸素流れと水素流れとの2因子相互作用が続くことが判る。低レベルのスタンドオフ距離で,炎中の飛行中粒子速度がより速く,溶射後の基板温度がより高いと,ピーニング応力と冷却応力がより多く発生し,皮膜中により高い圧縮残量応力をもたらす。Copyright 2012 ASM International Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *火炎溶射 ,  実験計画法 ,  酸素 ,  気体燃料 ,  距離 ,  溶射層 ,  *残留応力 ,  飛行性 ,  粒子 ,  粒子速度 ,  水素 ,  基板温度 ,  たわみ ,  圧縮応力 ,  ピーニング ,  焼入 ,  冷却 ,  流量 ,  *炭化タングステン ,  コバルト ,  クロム ,  粉体 ,  金属粉末 ,  サーメット ,  *セラミック被覆
準シソーラス用語： *HVOF【溶射】 ,  飛行中粒子 ,  粉体供給 ,  溶射距離 ,  粒子温度

分類 (2件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  機械的性質  (WB02030U)

タイトルに関連する用語 (6件)： 高速フレーム溶射 ,  WC-Co ,  Cr ,  皮膜 ,  残留応力 ,  プロセシングパラメータ