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J-GLOBAL ID：201202248728615272   整理番号：12A0328742

自己修復材料の分野における現在の動向

Current Trends in the Field of Self-Healing Materials

著者 (6件)： GUIMARD Nathalie K. (Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Karlsruhe, DEU) ,  OEHLENSCHLAEGER Kim K. (Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Karlsruhe, DEU) ,  ZHOU Jiawen (Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Karlsruhe, DEU) ,  HILF Stefan (Evonik Ind. AG, Hanau-Wolfgang, DEU) ,  SCHMIDT Friedrich Georg (Evonik Ind. AG, Marl, DEU) ,  BARNER-KOWOLLIK Christopher (Karlsruhe Inst. of Technol. (KIT), Karlsruhe, DEU)
資料名： Macromolecular Chemistry and Physics  (Macromolecular Chemistry and Physics)
巻： 213  号： 2  ページ： 131-143  発行年： 2012年01月27日 
JST資料番号： D0010A  ISSN： 1022-1352  CODEN： MCHPES  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 自己修復性高分子材料の最近の進展に関して最近20年の文献から概説した。光,熱(温度)などをトリガーとする各種官能基をもつ高分子間反応による自己修復性機能を説明した。官能基は,超分子を形成する包接錯体,ロタキサン,熱化学反応を受ける共役ジエンとジエノフィルによるDiels-Alder反応,ウレイドピリミジノン残基間の水素結合,などの例を挙げて解説した。他に,脂肪酸とジエチレントリアミンの縮合,続く尿素との反応によるオリゴマ生成物,トリス-カテコール-Fe³⁺ゲル化反応による高分子間反応も説明した。また,光照射によるトリチオ炭酸結合のメタセシス反応,ビスアシルヒドラジン基とアルデヒド基によるアシルヒドラゾン生成による高分子間反応も解説した。そして,これらの官能基を導入した高分子の自動的,熱応答性,pH依存性の材料に入った亀裂や傷を復元可能な自己修復材料を解説した。

シソーラス用語： *回復 ,  *インテリジェント材料 ,  *再生 ,  Diels-Alder反応 ,  熱化学反応 ,  包接化合物 ,  *高分子間反応 ,  紫外線照射 ,  共役ジエン ,  水素結合錯体 ,  ゲル化 ,  架橋【高分子】 ,  オリゴマ ,  官能化 ,  ロタキサン ,  超分子構造 ,  末端基
準シソーラス用語： *自己修復

分類 (2件)： 高分子の反応一般  (CG03001G) ,  高分子材料一般  (YH07010B)

タイトルに関連する用語 (2件)： 自己修復材料 ,  動向