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J-GLOBAL ID：201202249071876514   整理番号：12A1167016

マグネトロンスパッタリングにより堆積したTi-B-Cナノ複合体コーティング

Ti-B-C nanocomposite coatings deposited by magnetron sputtering

著者 (6件)： LAURIDSEN J. (Thin Film Physics Div., Dep. of Physics, Chemistry, and Biology (IFM), Linkoeping Univ., SE-581 83 Linkoeping, SWE) ,  NEDFORS N. (Dep. of Materials Chemistry, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., P.O. Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE) ,  JANSSON U. (Dep. of Materials Chemistry, The Ångstroem Lab., Uppsala Univ., P.O. Box 538, SE-751 21 Uppsala, SWE) ,  JENSEN J. (Thin Film Physics Div., Dep. of Physics, Chemistry, and Biology (IFM), Linkoeping Univ., SE-581 83 Linkoeping, SWE) ,  EKLUND P. (Thin Film Physics Div., Dep. of Physics, Chemistry, and Biology (IFM), Linkoeping Univ., SE-581 83 Linkoeping, SWE) ,  HULTMAN L. (Thin Film Physics Div., Dep. of Physics, Chemistry, and Biology (IFM), Linkoeping Univ., SE-581 83 Linkoeping, SWE)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 258  号： 24  ページ： 9907-9912  発行年： 2012年10月01日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 8~17at.%のB含有量のTi-B-Cナノ複合体コーティングを,B₄C,Ti,及びCターゲットからのマグネトロンスパッタリングにより堆積した。X線回折,光電子分光法,及び電子顕微鏡法から,コーティングが非晶質(a)C,BC_x,TiO_x及びBO_xのマトリクスに埋め込まれたナノ結晶(nc)TiC:Bからなることを示した。非晶質相の比率は,Ti濃度とともにスケールした。少量のフリーCをもつnc-TiC:B/a-BC_x/a-Cコーティングは,Auプローブに対して約1Nの負荷におけるAgスパッタコーティングの接触抵抗と同程度の接触抵抗を示した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  X線回折 ,  非晶質 ,  *ナノ結晶 ,  *炭化チタン ,  *接触抵抗 ,  ナノ複合材料 ,  被覆層 ,  スパッタ蒸着 ,  *炭化ホウ素 ,  炭素材 ,  ウエハ【IC】 ,  二酸化ケイ素 ,  ステンレス鋼 ,  *セラミック被覆 ,  銅合金 ,  スズ含有合金 ,  *X線光電子スペクトル ,  接点材料
準シソーラス用語： Si基板 ,  非晶質炭素

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  界面の電気的性質一般  (BM03081H) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (5件)： マグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  Ti ,  ナノ複合体 ,  コーティング