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J-GLOBAL ID：201202249087489723   整理番号：12A1116771

Keldyshパラメータの遷移領域での広バンドギャップ誘電材料における電子励起と緩和プロセス

Electronic excitation and relaxation processes in wide band gap dielectric materials in the transition region of the Keldysh parameter

著者 (3件)： SHCHEBLANOV Nikita S. (Lab. Hubert Curien, UMR CNRS 5516/Universite de Lyon, Bat. F, 18, rue de Professeur Benoit Lauras, 42000 ...) ,  SILAEVA Elena P. (Lab. Hubert Curien, UMR CNRS 5516/Universite de Lyon, Bat. F, 18, rue de Professeur Benoit Lauras, 42000 ...) ,  ITINA Tatiana E. (Lab. Hubert Curien, UMR CNRS 5516/Universite de Lyon, Bat. F, 18, rue de Professeur Benoit Lauras, 42000 ...)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 258  号： 23  ページ： 9417-9420  発行年： 2012年09月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘電材料中に超短レーザパルスによって誘起された電子励起プロセスの数値的モデリングを実行した。開発したモデルは詳細なカイネティック記述に基づき,電子サブシステムにおける平衡の欠如を説明する。先ず,異なるレーザ強度に対して光イオン化プロセスを解析した。このプロセスの確率はKeldyshパラメータとレーザ場の関数として計算される実効イオン化ポテンシャルに強く依存することがわかった。電子エネルギー分布を計算し,平均エネルギーをレーザパラメータの関数として解析した。この依存性の最大値に対応するレーザ強度に対して,電子のほんの1%が衝突イオン化に必要なエネルギーを達成することが分かった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *パルスレーザ照射 ,  *誘電材料 ,  放射場 ,  *電子励起 ,  緩和現象 ,  *多光子イオン化 ,  理論 ,  シミュレーション ,  分布関数 ,  衝突イオン化
準シソーラス用語： レーザ場 ,  Keldysh理論 ,  数値シミュレーション ,  電子エネルギー分布関数

分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  誘電体一般  (BM05010F)

タイトルに関連する用語 (6件)： パラメータ ,  遷移領域 ,  バンドギャップ ,  誘電材料 ,  電子励起 ,  緩和プロセス