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J-GLOBAL ID：201202249365011643   整理番号：12A0745848

ステップ修飾したキラルCu表面上でのアミノ酸のエナンチオ特異的化学吸着

Enantiospecific Chemisorption of Amino Acids on Step Decorated Chiral Cu Surfaces

著者 (1件)： HAN Jeong Woo (Massachusetts Inst. of Technol., Dep. of Nuclear Sci. and Engineering, 77 Massachusetts Avenue, 02139, Cambridge, MA ...)
資料名： Topics in Catalysis  (Topics in Catalysis)
巻： 55  号： 5-6  ページ： 243-259  発行年： 2012年06月 
JST資料番号： W1435A  ISSN： 1022-5528  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高ステップ金属表面は本質的にキラル構造であり,キラル分子の分離用に使える可能性がある。追加金属原子によるこれら表面のステップ修飾は,これら表面のエナンチオ特異性を改善するための有望な方法であると考えられる。密度汎関数理論(DFT)計算を行って,純,Pd-修飾及びAu-修飾Cu(643)^S表面上に吸着したアミノ酸のエナンチオ特異的化学吸着を調べた。これら表面上でのアラニンのエナンチオマに対する吸着エネルギーの違いは無視できる程度であった。しかしながら,全ての表面に対し,最も安定な状態にあるセリン及びシステインの2種類のエナンチオマ間に,重要な違いが存在していた。μ₃吸着構造にあるセリンとシステインに対して,ステップ修飾によるエナンチオ特異性における増強は観測されなかったが,μ₄構造のそれらに対しては,特にAu-修飾表面上において,向上した。これらの結果から,キラルな表面化学の調整によるこれら表面上でのアミノ酸のエナンチオ特異的吸着に及ぼす影響に関する初めての情報が得られた。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *化学吸着 ,  *立体特異性 ,  アミノ酸 ,  銅 ,  *表面 ,  *表面ステップ ,  カイラル固定相 ,  密度汎関数法 ,  計算機シミュレーション ,  吸着エネルギー ,  エナンチオマ ,  電荷移動 ,  金属触媒 ,  パラジウム ,  金 ,  脂肪族アミン ,  脂肪族カルボン酸 ,  第一アミン ,  脂肪族アルコール ,  アミノアルコール ,  ヒドロキシ酸
準シソーラス用語： *金属表面 ,  二金属触媒

分類 (2件)： 吸着の電子論  (CB12042Y) ,  分子の電子構造  (BH05010Q)

物質索引 (6件)： (S)-アラニン ,  D-Cys-OH ,  D-Ala-OH ,  D-Ser-OH ,  L-Ser-OH ,  グリシン

タイトルに関連する用語 (5件)： 修飾 ,  キラル ,  Cu ,  アミノ酸 ,  化学吸着