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J-GLOBAL ID：201202249965586836   整理番号：12A0479058

六方晶系窒化ホウ素上での固体炭素源からの数層のグラフェンの水素フレーム合成

Hydrogen flame synthesis of few-layer graphene from a solid carbon source on hexagonal boron nitride

著者 (8件)： LIN Tianquan (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  WANG Yaoming (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  BI Hui (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  WAN Dongyun (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  HUANG Fuqiang (Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  HUANG Fuqiang (Peking Univ., Beijing, CHN) ,  XIE Xiaoming (Shanghai Inst. Microsystem and Information Technol., Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN) ,  JIANG Mianheng (Shanghai Inst. Microsystem and Information Technol., Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 22  号： 7  ページ： 2859-2862  発行年： 2012年02月21日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素炎合成法によって,触媒を用いることなくポリメタクリル酸メチル(PMMA)被覆六方晶系窒化ホウ素(h-BN)からPMMAの分解によりh-BN単結晶フレーク上に擬自立グラフェンナノシートを調製することができた。グラフェンとh-BNの比はPMMAの濃度を調節することによって調整できる。最初の段階でグラフェン層はh-BN結晶の(-1100)面に固定される。グラフェンドメインが生成すると,グラフェンはh-BN基板上に成長し短時間で高電気伝導率の擬自立ナノシートを生成する。

シソーラス用語： *窒化ホウ素 ,  六方晶系 ,  *炭素材 ,  *水素 ,  *火炎 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  分解反応 ,  単結晶 ,  フレーク ,  ナノ構造 ,  膜 ,  結晶面 ,  基板 ,  結晶成長 ,  電気伝導率 ,  Ramanスペクトル ,  X線光電子スペクトル ,  透過型電子顕微鏡 ,  高分解能電子顕微鏡 ,  制限視野回折 ,  *グラフェン ,  ナノシート
準シソーラス用語： *六方晶系窒化ホウ素 ,  *フレーム【炎】 ,  TEM【顕微鏡】 ,  高分解能透過型電子顕微鏡

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 六方晶系窒化ホウ素 ,  固体 ,  炭素源 ,  グラフェン ,  水素