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J-GLOBAL ID:201202249996864745   整理番号:12A1578942

グラフェンのTi:サファイアフェムト秒レーザ直接マイクロカッティング及びプロファイリング

Ti:sapphire femtosecond laser direct micro-cutting and profiling of graphene
著者 (8件):
資料名:
巻: 109  号:ページ: 291-297  発行年: 2012年11月 
JST資料番号: D0256C  ISSN: 0947-8396  CODEN: APHYCC  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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フェムト秒レーザ直接カッティングを用いてガラス基板上へのグラフェンの一様な単層マイクロパターンの形成を報告した。グラフェンのカッティングは空気中とアルゴン中でなされた。グラフェン試料をレーザビームに対して移動させることによって,連続的なマイクロチャンメルが彫られた。カッティング形状はレーザフルエンスと走査経路を変えて制御された。1~2μm幅のグラフェンマイクロリボンがハッチされた。グラフェンのアブレーションしきい値は0.16~0.21J/cm2と決定された。アブレーションしきい値よりも高いレーザフルーエンスでは,グラフェンは急速にアブレートされ,ガラス基板を傷めることなく完全に除去された。原子間力顕微鏡(AFM)とRaman分光を用いてグラフェンのアブレーションを確認した。時間領域有限差分モデリングを用いてレーザアブレーションプロセスの熱履歴を解釈した。Copyright 2012 Springer-Verlag Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (3件):
分類
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固体デバイス製造技術一般  ,  レーザ照射・損傷  ,  炭素とその化合物 

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