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J-GLOBAL ID：201202250009764317   整理番号：12A1439388

iGLXガスマネジメントシステムを使ったリソグラフィ光源の現地稼動率改善

Field performance availability improvements in lithography light sources using the iGLX Gas Management System

著者 (6件)： O’BRIEN Kevin (Cymer Inc., CA, USA) ,  RIGGS Daniel J. (Cymer Inc., CA, USA) ,  THORNES Josha (Cymer Inc., CA, USA) ,  HAN Nora (Cymer Inc., CA, USA) ,  CHAKRAVORTY Amit (Cymer Inc., CA, USA) ,  BELITZ Paul (Cymer Inc., CA, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8326  号： Pt.2  ページ： 83261O.1-83261O.9  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リソグラフィのレーザ光源はガスの補給や保守で年間9~16時間費やしていて,その間製造が停止する。このダウンタイム削減は生産性向上に重要である。光源にCymerのiGLXガスマネジメントシステムを取り付けて達成される稼動率改善を記す。iGLXシステムはパルスベースのガス充てん間隔をCymerのXLAシリーズトXLRシリーズの光源に対して40億パルスまで拡張した。iGLXは主発振器(MO)とパワーアンプ(PA)ガスコントローラを完全に分離して,各チャンバーのガス制御を独立に改善した。これによってフルガス充てん間隔を長くした。更に,iGLXはガスの保守を自動化し,保守スピードを速めてばらつきを少なくした。iGLXシステムは保守関連のダウンタイムを75%減らし,光源稼動率を年間12時間増やした。ハロゲンガス使用量は16%減って,手動の保守作業は無くなった。

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  フォトリソグラフィー ,  *光源 ,  *稼働率 ,  気体 ,  保全 ,  停止時間
準シソーラス用語： ガス ,  レーザー光源 ,  非稼働時間 ,  *露光装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： リソグラフィ ,  現地 ,  稼動率