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J-GLOBAL ID：201202250021339958   整理番号：12A0385818

マルチフェロイックBiFeO₃膜における構造依存の超高速電子-フォノン結合

Structural dependent ultrafast electron-phonon coupling in multiferroic BiFeO₃ films

著者 (8件)： JIN Zuanming (Dep. of Physics, Shanghai Univ., 99 Shangda Road, Shanghai 200444, People’s Republic of China) ,  XU Yue (Dep. of Physics, Shanghai Univ., 99 Shangda Road, Shanghai 200444, People’s Republic of China) ,  ZHANG Zhengbing (Dep. of Physics, Shanghai Univ., 99 Shangda Road, Shanghai 200444, People’s Republic of China) ,  LI Gaofang (Dep. of Physics, Shanghai Univ., 99 Shangda Road, Shanghai 200444, People’s Republic of China) ,  LIN Xian (Dep. of Physics, Shanghai Univ., 99 Shangda Road, Shanghai 200444, People’s Republic of China) ,  MA Guohong (Dep. of Physics, Shanghai Univ., 99 Shangda Road, Shanghai 200444, People’s Republic of China) ,  CHENG Zhenxiang (Inst. for Superconductor and Electronic Materials, Univ. of Wollongong, Squair Ways, North Wollongong, NSW 2500, AUS) ,  WANG Xiaolin (Inst. for Superconductor and Electronic Materials, Univ. of Wollongong, Squair Ways, North Wollongong, NSW 2500, AUS)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 7  ページ： 071105  発行年： 2012年02月13日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶BiFeO₃膜の電子エネルギー緩和を超高速ポンププローブ分光法により研究した。フェムト秒レーザパルスによる光励起後に,ホットエレクトロンの緩和を二つの異なる特性時間をもつ減衰で同定した。高速プロセスは格子振動モードの電子の散乱のためで,低速プロセスはスピン-格子熱化に対応している。電子-フォノン結合はEliashberg関数λ<ω²>の第二モーメントで特徴づけられる。構造歪と対称性の破れによって,正方晶BiFeO₃膜の電子-フォノン相互作用強度は菱面体晶よりも大きい。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ビスマス化合物 ,  *鉄化合物 ,  材料 ,  多結晶 ,  薄膜 ,  *電子-フォノン相互作用 ,  緩和現象 ,  ホットエレクトロン ,  Eliashbergの式 ,  スピン-格子緩和 ,  対称性の破れ ,  結晶構造 ,  正方晶系 ,  酸化物 ,  ポンププローブ法
準シソーラス用語： エネルギー緩和 ,  マルチフェロイック物質 ,  鉄酸ビスマス ,  電子-フォノン結合

分類 (1件)： ポーラロン,電子-フォノン相互作用  (BM02130P)

タイトルに関連する用語 (3件)： マルチフェロイック ,  BiFeO3 ,  電子-フォノン結合