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J-GLOBAL ID：201202250426760871   整理番号：12A1217012

ハイブリッド自己整合三重およびネガ型二重パターン形成のオーバーレイ,分解および合成方法論

Overlay, Decomposition and Synthesis Methodology for Hybrid Self-aligned Triple and Negative-tone Double Patterning

著者 (2件)： KANG Weiling (Peking Univ., Guangdong, CHN) ,  CHEN Yijian (Peking Univ., Guangdong, CHN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8327  ページ： 83270N.1-83270N.12  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ハイブリッド自己整合三重およびネガ型二重パターン形成(HTDP)技術を提案して,低コストで分解能を改善し,さらに準二次元IC設計柔軟性を実現した。マンドレルおよびスペーサー工学により,オングリッドレイアウト設計は一次元グリッド入り設計の限界を打破できた。さらに,HTDPレイアウトおよび複数のプロセス仮定の形状的な制約を考慮することにより,HTDPレイアウト分解/合成をBoolean満足問題に効率的に定式化することが可能で,レイアウト特徴の数とBoolean入力変数を著しく減らせた。

シソーラス用語： 自己整合 ,  *超小形回路技術 ,  パターン形成 ,  *レジスト ,  舗装表面処理 ,  分解 ,  合成 ,  方法論 ,  ハイブリッド系 ,  充足可能性問題 ,  Boole関数
準シソーラス用語： *二重パターン形成 ,  *ネガティブ型レジスト ,  オーバレイ【舗装】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 自己整合 ,  ネガ ,  二重パターン形成 ,  オーバーレイ ,  分解 ,  合成方法