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J-GLOBAL ID：201202250859611803   整理番号：12A1650858

酸素/チタンテトライソプロポキシドプラズマ中のプラズマ支援化学蒸着により堆積したTiO₂膜の分光偏光解析

Spectroscopic ellipsometry analysis of TiO₂ films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition in oxygen/titanium tetraisopropoxide plasma

著者 (5件)： LI D. ,  CARETTE M. ,  GRANIER A. ,  LANDESMAN J.p. ,  GOULLET A.
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 522  ページ： 366-371  発行年： 2012年11月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸素過剰/チタンテトライソプロポキシド誘導結合RFプラズマ中で,プラズマ支援化学蒸着を用いてSi基板上に低圧低温でTiO₂薄膜を蒸着した。基板バイアスV_b(|V_b|≦50V)が膜特性に及ぼす影響を調べた。1.5~6eV範囲で偏光解析スペクトルを当てはめて得た結果は,非バイアス又はV_b=-10Vのときの膜形態と良く一致した。透明領域における屈折率はV_b=-50Vで増加した。全ての膜は柱状構造を示したが,層の緊密さと組織はバイアスと共に増加した。膜は基本的に非晶質であり,浮動電位(V_b=0)で少量のアナターゼを含み,バイアスを印加するとアナターゼ相が増大し,ルチル相(V_b=-50V)が現れた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *酸化チタン ,  薄膜成長 ,  *結晶構造 ,  アナターゼ型結晶 ,  ルチル型結晶 ,  電子顕微鏡観察 ,  偏光解析法
準シソーラス用語： *二酸化チタン ,  分光偏光解析

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 酸素 ,  プラズマ支援化学蒸着 ,  堆積 ,  TiO2 ,  分光偏光解析