文献

J-GLOBAL ID：201202251276689061   整理番号：12A1370997

ナノスリット開口から金属-絶縁体-金属導波路への表面プラズモン結合効率

Surface plasmon coupling efficiency from nanoslit apertures to metal-insulator-metal waveguides

著者 (6件)： HU Haifeng (Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100083, CHN) ,  ZENG Xie (Dep. of Electrical Engineering, The State Univ. of New York at Buffalo, Buffalo, New York 14260, USA) ,  WANG Lina (Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100083, CHN) ,  XU Yun (Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100083, CHN) ,  SONG Guofeng (Inst. of Semiconductors, Chinese Acad. of Sci., Beijing 100083, CHN) ,  GAN Qiaoqiang (Dep. of Electrical Engineering, The State Univ. of New York at Buffalo, Buffalo, New York 14260, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 101  号： 12  ページ： 121112-121112-5  発行年： 2012年09月17日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大部分のプラズモンナノ構造では結合が極めて重要な問題である。しかし,多くのナノプラズモン構造に対する結合効率は理論最適化手法の不足故に相対的に弱い。従って,ナノプラズモン構造を通した結合効率の機構と改善の理解の取扱が不可欠である。本論文では,無限長及び有限長のナノスリットから平面金属-絶縁体-金属(MIM)導波路構造への結合効率を解析的及び数値的に定量的に予測するための理論解析を示した。この設計原理はフォトニクス,オプトエレクトロニクス,ナノエレクトロニクスの隙間を埋めるMIMプラズモンネットワークの開発に有用である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： ナノ構造 ,  光学スリット ,  MIM構造 ,  *表面プラズモン ,  *効率 ,  *導波路
準シソーラス用語： ナノスリット ,  *結合効率

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (5件)： スリット開口 ,  絶縁体 ,  導波路 ,  表面プラズモン ,  結合効率