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J-GLOBAL ID：201202251427489337   整理番号：12A0593680

無電解ニッケル-ホウ素メッキ(5wt.%B)の構造状態:XRDおよびTEMによるキャラクタリゼーション

Structural state of electroless nickel-boron deposits (5wt.% B): Characterization by XRD and TEM

著者 (4件)： VITRY V. ,  KANTA A.-f. ,  DILLE J. ,  DELAUNOIS F.
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 206  号： 16  ページ： 3444-3449  発行年： 2012年04月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 約5wt%のホウ素量を有する無電解ニッケル-ホウ素の構造を,集束イオンビーム法により調製した薄い断面におけるX線回折,透過電子顕微鏡により,メッキままの状態と熱処理状態で調査した。メッキままの状態では,短距離秩序を持つ領域の存在が観察された。通常述べられるように,高ホウ素含有無電解ニッケル-ホウ素皮膜は,完全に非晶質ではないことを,これは示す。熱処理の後,無電解ニッケル-ホウ素の構造は,ナノ結晶質のホウ化ニッケルNi₃Bとなって出現した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *無電解めっき ,  *ニッケル合金 ,  ホウ素含有合金 ,  合金めっき ,  *短範囲規則度 ,  ナノ結晶 ,  ホウ化物 ,  ニッケル化合物 ,  軟鋼 ,  めっき液 ,  ヒドリドホウ酸ナトリウム ,  塩化ニッケル ,  ジアミン ,  タングステン酸塩 ,  鉛化合物 ,  安定剤 ,  *表面構造 ,  後熱処理 ,  *めっき皮膜 ,  アルキレンジアミン ,  第一アミン
準シソーラス用語： タングステン酸鉛 ,  ホウ化ニッケル

分類 (2件)： 無電解めっき  (WC08024S) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

物質索引 (1件)： エチレンジアミン

タイトルに関連する用語 (6件)： 無電解ニッケル ,  ホウ素 ,  メッキ ,  XRD ,  TEM ,  キャラクタリゼーション