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J-GLOBAL ID：201202251740994077   整理番号：12A1016145

シリコン太陽電池用のAl₂O₃系表面不動態化スキームの現状と展望

Status and prospects of Al₂O₃-based surface passivation schemes for silicon solar cells

著者 (2件)： DINGEMANS Gijs (Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD) ,  KESSELS Erwin (Dep. of Applied Physics, Eindhoven Univ. of Technol., P.O. Box 513, 5600 MB Eindhoven, NLD)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 30  号： 4  ページ： 040802-040802-27  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコン表面を不動態化して電子再結合損失を減らすことは高効率太陽電池を実現する上で重要となる。2006年に,原子層蒸着(ALD)によって合成された酸化アルミニウム(Al₂O₃)ナノ層が,p型とn型の結晶Si(c-Si)表面を不動態化する新しい解となって現れた。今日,実験室型と工業型の太陽電池に超薄Al₂O₃膜を実現して,高い効率を達成している。本記事では,Si光起電力素子の意味でAl₂O₃薄膜に関する最近の研究を概説し,まとめた。話題は,材料,界面,及び不動態化の特性が関係する基礎的な側面から,合成法や太陽電池中のこの膜の実現にわたる。Al₂O₃は,負の固定電荷による電界効果不動態化,低い界面欠陥密度,処理中の十分な安定性,そして厚みが数ナノメートルに達する超薄膜を使用できる可能性が組合さった特異な特徴を持つ。様々な方法を使ってAl₂O₃が合成できるが,この概説では,c-Si光起電力素子の分野における新しい技術であるALDに焦点を当てた。著者らは,どのようにALDの特異な特徴を利用して,界面エンジニアリングやナノ層表面不動態化スキームの特性を調節するか論じ,またその高いスループット製造との両立性も調べた。表面不動態化の分野において達成した最近の進展によって,工業用太陽電池のより高い効率が可能となった。これは近い将来において安価な太陽電気を実現する上で重要である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 太陽電池 ,  不動態化 ,  キャリア再結合 ,  エネルギー変換効率 ,  化学蒸着 ,  *酸化アルミニウム ,  ナノ構造 ,  膜 ,  超薄膜 ,  誘電体薄膜 ,  電荷 ,  格子欠陥 ,  膜厚 ,  ナノシート
準シソーラス用語： ナノ層 ,  *結晶シリコン太陽電池 ,  *原子層蒸着 ,  固定電荷 ,  *表面不動態化

分類 (2件)： 太陽電池  (NC03084O) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリコン太陽電池 ,  Al2O3 ,  表面不動態化 ,  スキーム ,  現状 ,  展望