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J-GLOBAL ID：201202252355531186   整理番号：12A1221918

回転ディスク電極上での表面反応の速度論

Kinetics of surface reactions on rotating disk electrodes

著者 (5件)： VARGAS Ronald (Departamento de Quimica, Universidad Simon Bolivar, Apartado 89000, Caracas 1080A, Venezuela) ,  BORRAS Carlos (Departamento de Quimica, Universidad Simon Bolivar, Apartado 89000, Caracas 1080A, Venezuela) ,  MOSTANY Jorge (Departamento de Quimica, Universidad Simon Bolivar, Apartado 89000, Caracas 1080A, Venezuela) ,  SCHARIFKER Benjamin R. (Departamento de Quimica, Universidad Simon Bolivar, Apartado 89000, Caracas 1080A, Venezuela) ,  SCHARIFKER Benjamin R. (Universidad Metropolitana, Apartado 76819, Caracas 1070A, Venezuela)
資料名： Electrochimica Acta  (Electrochimica Acta)
巻： 80  ページ： 326-333  発行年： 2012年10月01日 
JST資料番号： B0535B  ISSN： 0013-4686  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 回転ディスク電極の流体力学的条件下で拡散-対流式をLangmuir-Hinshelwood速度論メカニズムに従う電気化学反応について解き,電極表面上の吸着種の吸着-脱着平衡と遅い反応を考慮して,回転速度の関数として電流(反応速度)に関する式を得た。この式は,二酸化鉛電極上のp-メトキシフェノールおよびp-ニトロフェノールへの電気化学的酸素移動の実験上の評価に適用した。回転ディスク電極で得たLangmiur平衡定数と反応速度定数を,それぞれ独立した吸着等温線と電解研究から測定した相当する値をうまく比較し,それはLangmuir-Hinshelwoodメカニズムに従うプロセスで起こる物質移動,吸着-脱着平衡,および表面反応間の速度論的結合を概述するアプローチを表している。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *Langmuir-Hinshelwood機構 ,  円盤電極 ,  *表面反応 ,  *電気化学反応 ,  流体力学 ,  拡散 ,  対流 ,  *反応速度論 ,  *反応速度 ,  吸着 ,  脱着 ,  *吸着平衡 ,  *物質移動 ,  化学反応 ,  *平衡定数 ,  固液界面
準シソーラス用語： 回転ディスク電極 ,  酸素移動

分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  その他の無触媒反応  (CB06070U)

物質索引 (2件)： p-ニトロフェノール ,  p-メトキシフェノール

タイトルに関連する用語 (3件)： 回転ディスク電極 ,  表面反応 ,  速度論