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J-GLOBAL ID：201202252859761930   整理番号：12A0339851

ディップペンナノリソグラフィによる硬い基板および柔らかいフレキシブルな基板上への導電性高分子インクの液体付着パターン形成

Liquid Deposition Patterning of Conducting Polymer Ink onto Hard and Soft Flexible Substrates via Dip-Pen Nanolithography

著者 (6件)： NAKASHIMA Hiroshi (Univ. Wollongong, NSW, AUS) ,  NAKASHIMA Hiroshi (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  HIGGINS Michael J. (Univ. Wollongong, NSW, AUS) ,  O’CONNELL Cathal (Univ. Wollongong, NSW, AUS) ,  TORIMITSU Keiichi (NTT Corp., Kanagawa, JPN) ,  WALLACE Gordon G. (Univ. Wollongong, NSW, AUS)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 28  号： 1  ページ： 804-811  発行年： 2012年01月10日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ領域における導電性高分子(PEDOT:PSS)の付着およびパターン形成を可能にするインク配合およびプロトコールを開発し,安価でフレキシブルな電子材料であるシリコンゴムおよびテレフタル酸(PET)のような柔らかい基板上へのパターン形成能力を実証した。付着過程および高分子パターンの寸法は,ペンの設計,インクの性質,ペンへのインク付着後の時間,表面上でのペンの滞留時間および基板の性質のようなさまざまなパラメータによって決定的に支配される。これらのパラメータを評価することによって,パターン化アレイ内の幅600nmおよび高さ10-80nmまでの微小なPEDOT-PSS構造を制御することが可能となった。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  フレキシブル基板 ,  *パターン形成 ,  *導電性高分子 ,  *インク ,  ポリエチレンジオキシチオフェン ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  ポリマブレンド
準シソーラス用語： PEDOT:PSS ,  *ディップペンナノリソグラフィー ,  *導電性インク

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： ディップペンナノリソグラフィ ,  導電性高分子 ,  インク ,  パターン形成