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J-GLOBAL ID：201202253068825418   整理番号：12A0649831

ボラノホスホトリエステル法によるリン原子の立体を制御したボラノホスフェートDNAの合成

著者 (2件)： 内山直樹 (東大 大学院) ,  和田猛 (東大 大学院)
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 92nd  号： 3  ページ： 768  発行年： 2012年03月09日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： A,G,C,Tすべての核酸塩基を含み,かつリン原子の立体を制御した長鎖ボラノホスフェートDNAの合成法の開発を目指した。A,G,C,Tを含むボラノホスフェート核酸はボラノホスホトリエステル法によって合成可能である。通常,ボラノホスホトリエステル法は縮合工程においてリン原子のエピメリ化を伴う。しかし本研究では,リン酸部位の保護基に不斉補助基を導入することで,縮合反応に立体選択性を発現させることに成功した。(著者抄録)

シソーラス用語： DNA合成 ,  *化学修飾 ,  *DNA【核酸】 ,  縮合反応 ,  立体選択性 ,  基
準シソーラス用語： キラル補助基 ,  *ボラノホスフェートDNA ,  保護基

分類 (1件)： ヌクレオシド,ヌクレオチド  (CF10060K)

タイトルに関連する用語 (3件)： リン原子 ,  立体 ,  DNA