文献

J-GLOBAL ID：201202253389680292   整理番号：12A0508247

Sr_0.25Bi_0.75O_1.36光触媒の作製と光触媒特性

Preparation and photocataytic property of Sr_0.25Bi_0.75O_1.36 photocatalyst

著者 (6件)： LI Tingting ,  WANG Yongjiao ,  HE Yiming ,  CAI Jun ,  LUO Mengfei ,  ZHAO Leihong
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 74  ページ： 170-172  発行年： 2012年05月01日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本報告では簡易な含浸-焼成法で作製した新しい可視光応答型光触媒Sr_0.25Bi_0.75O_1.36について報告した。BET比表面積,走査型電子顕微鏡,X線回折,Raman分光,拡散反射スペクトル及び密度関数理論を用いて触媒の物理的/光物理的性質と電子構造を調べた。Sr_0.25Bi_0.75O_1.36の光触媒活性を可視光照射(λ>420nm)下の水溶液中のメチレンブルー(MB)分解により評価した。純粋なSr_0.25Bi_0.75O_1.36は2.43eVの光学バンドギャップを示し,MB光分解に優れた光触媒活性を示した。理論計算から,光触媒の電子構造は光誘起電荷キャリアの移動度に有利に作用し,積極的に光触媒反応に寄与することを示した。優れた光吸収と特殊な電子構造が光触媒の高活性の源であると考えられる。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ビスマス酸塩 ,  *ストロンチウム化合物 ,  ビスマス化合物 ,  硝酸塩 ,  *か焼 ,  酸化ビスマス ,  硝酸ストロンチウム ,  *含浸 ,  *光触媒 ,  *可視光 ,  応答 ,  活性 ,  光学ギャップ ,  電子構造
準シソーラス用語： 硝酸ビスマス ,  光触媒活性 ,  光学バンドギャップ

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 光触媒 ,  作製 ,  触媒特性