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J-GLOBAL ID：201202253389721681   整理番号：12A0644439

SiO₂基板上のデンドリマ状(PS)₂-b-PLA共重合体薄膜の膜厚に依存するモルフォロジー挙動

Thickness-dependent morphological behavior of dendritic (PS)₂-b-PLA copolymer thin films on a SiO₂ substrate

著者 (5件)： HA Jung-Guk (POSTECH, Kyungbuk, KOR) ,  SONG Jie (Dankook Univ., Gyeonggi-Do, KOR) ,  LEE Jeong-Kyu (POSTECH, Kyungbuk, KOR) ,  CHO Byoung-Ki (Dankook Univ., Gyeonggi-Do, KOR) ,  ZIN Wang-Cheol (POSTECH, Kyungbuk, KOR)
資料名： Chemical Communications  (Chemical Communications)
巻： 48  号： 28  ページ： 3418-3420  発行年： 2012年04月07日 
JST資料番号： D0376B  ISSN： 1359-7345  CODEN： CHCOFS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CuBrを触媒とするアジド-アルキン環状付加(クリック反応)を利用して,2分子のポリスチレン(PS)及び1分子のポリ乳酸(PLA)がトリアゾール環を介してコア部分に連結されたデンドリマ状の(PS)₂-b-PLA共重合体を合成した。また,SiO₂基板上で本ブロック共重合体の薄膜(膜厚=68~328nm)を作成した。また,斜入射小角X線散乱実験及び原子間力顕微鏡により,これらの薄膜のモルフォロジーはその膜厚により変化することを確認した。すなわち,膜厚が96nm以下の場合には薄膜表面は基板の(10)面に平行であるが,膜厚が96nmを超えると薄膜表面は基板の(01)面に平行になることが分かった。

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *デンドリマ ,  ポリスチレン ,  ポリ乳酸 ,  窒素複素環化合物 ,  化学合成 ,  環状付加 ,  触媒反応 ,  銅触媒 ,  臭化物 ,  銅化合物 ,  *薄膜 ,  基板 ,  モルフォロジー ,  依存性 ,  膜厚 ,  小角X線散乱 ,  すれすれ入射 ,  顕微鏡写真 ,  原子間力顕微鏡 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  クリック反応 ,  臭化銅 ,  膜厚依存性

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (9件)： SiO2 ,  デンドリマ ,  PS ,  PLA ,  共重合体 ,  薄膜 ,  膜厚 ,  モルフォロジー ,  挙動