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J-GLOBAL ID：201202253534346169   整理番号：12A1194166

Advanced Photon Sourceにおける専用の高分解能すれすれ入射X線散乱ビームライン8-ID-E

The dedicated high-resolution grazing-incidence X-ray scattering beamline 8-ID-E at the Advanced Photon Source

著者 (9件)： JIANG Zhang (Argonne National Lab., IL, USA) ,  LI Xuefa (Argonne National Lab., IL, USA) ,  STRZALKA Joseph (Argonne National Lab., IL, USA) ,  SPRUNG Michael (Argonne National Lab., IL, USA) ,  SUN Tao (Argonne National Lab., IL, USA) ,  SANDY Alec R. (Argonne National Lab., IL, USA) ,  NARAYANAN Suresh (Argonne National Lab., IL, USA) ,  LEE Dong Ryeol (Argonne National Lab., IL, USA) ,  WANG Jin (Argonne National Lab., IL, USA)
資料名： Journal of Synchrotron Radiation  (Journal of Synchrotron Radiation)
巻： 19  号： 4  ページ： 627-636  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： W0763A  ISSN： 0909-0495  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 構造の特性評価技法として,すれすれ入射X線散乱(GIXS)は,表面と界面におけるナノ構造とナノ複合体のその場実時間研究に適用されてきた。専用のビームラインを,高分解能及びコヒーレントGIXS実験のために,ビームライン8-ID-Eにおいて設計,建設及び最適化した。ビームラインと散乱技法の有効性と適用性を,反射率,すれすれ入射静及び動散乱と,コヒーレント表面X線光子相関分光法を含む,多数の実験によって実証した。8-ID-Eにおいて研究できるシステムは,液体表面とナノ構造化薄膜を含む。

シソーラス用語： *X線散乱 ,  高分解能 ,  すれすれ入射 ,  *ビームライン ,  構造解析 ,  表面 ,  界面 ,  ナノ構造 ,  複合体 ,  反射率 ,  光子相関分光法 ,  液体 ,  薄膜

分類 (1件)： X線回折法  (BK01020I)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分解能 ,  すれすれ入射 ,  X線散乱 ,  ビームライン ,  ID