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J-GLOBAL ID：201202253538486453   整理番号：12A1515841

Nb含有量の増加によるチタニア薄膜の表面濡れ性

Surface wettability of titania thin films with increasing Nb content

著者 (9件)： MARDARE Diana (Fac. of Physics, Alexandru Ioan Cuza Univ., 11 Carol I Blvd., 700506 Iasi, ROM) ,  YILDIZ Abdullah (Dep. of Energy Systems Engineering, Fac. of Engineering and Natural Sciences, Yildirim Beyazit Univ., 06030 Ankara, TUR) ,  GIRTAN Mihaela (Photonics Lab., Angers Univ., 2, Bd. Lavoisier, 49045 Angers, FRA) ,  MANOLE Alina (Fac. of Physics, Alexandru Ioan Cuza Univ., 11 Carol I Blvd., 700506 Iasi, ROM) ,  DOBROMIR Marius (Fac. of Physics, Alexandru Ioan Cuza Univ., 11 Carol I Blvd., 700506 Iasi, ROM) ,  IRIMIA Mihaela (Fac. of Physics, Alexandru Ioan Cuza Univ., 11 Carol I Blvd., 700506 Iasi, ROM) ,  ADOMNITEI Catalin (Fac. of Physics, Alexandru Ioan Cuza Univ., 11 Carol I Blvd., 700506 Iasi, ROM) ,  CORNEI Nicoleta (Fac. of Chemistry, Alexandru Ioan Cuza Univ., 11 Carol I Blvd., 700506 Iasi, ROM) ,  LUCA Dumitru (Fac. of Physics, Alexandru Ioan Cuza Univ., 11 Carol I Blvd., 700506 Iasi, ROM)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 112  号： 7  ページ： 073502-073502-5  発行年： 2012年10月01日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス基板上にゾルゲル技術(スピン塗布法)によってTiO₂およびTiO₂/Nbアモルファス薄膜を成長した。膜の表面組成,構造,および形態をX線光電子分光法,X線回折,および原子間力顕微鏡法データから導き出した。研究した膜は平滑な表面(5nm以下の粗さ)を示した。独立した表面濡れ性の研究により,初期のチタニア膜でNb含有量を増加させると接触角(CA)値が40°から約0°に減少する。したがってUV照射の下では超親水性変換を示す。この変換速度はNb含有量の増加によって著しく増加する。表面超親水性挙動はTiO₂/Nb試料では数分の後に起きるが,初期のチタニア試料では4時間後に起きる。最新結果を膜のNb含有量を増加させることにより高エネルギー側への光学バンドギャップシフトと小さなポーラロンホッピングモデルに基づいて説明される過程に関連して議論する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *絶縁膜 ,  *酸化チタン ,  *ニオブ ,  *含有量 ,  *濡れ ,  ゾル-ゲル法 ,  *非晶質 ,  ドーピング ,  組成 ,  膜構造 ,  形態 ,  X線光電子分光法 ,  X線回折 ,  顕微鏡観察 ,  接触角 ,  親水性 ,  光学ギャップ ,  紫外線照射
準シソーラス用語： チタニア ,  原子間力顕微鏡法 ,  超親水性 ,  表面組成

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  固-液界面  (CB12050B)

タイトルに関連する用語 (5件)： Nb ,  含有量 ,  チタニア ,  薄膜 ,  表面濡れ性