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J-GLOBAL ID：201202254188847586   整理番号：12A1439397

パターンマッチングの検証フローへの集積

Integration of Pattern Matching into Verification Flows

著者 (2件)： DESOUKY Tamer (Mentor Graphics Egypt, Cairo, EGY) ,  SAEED Omnia (Mentor Graphics Egypt, Cairo, EGY)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8326  号： Pt.2  ページ： 83261X.1-83261X.11  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： OPCの検証はコーディングの複雑さからより複雑になり,TATが増加する。コーディング複雑さの例はウエィバー検出とその除去である。ホットスポット抽出も時間がかかる。本研究では検証フローの問題解決にパターンマッチングを採り入れた。パターンマッチングはDRCベースプロセスなのでTATに大きな利点があり,時間のかかるLITHO操作よりもはるかに速い。まず,OPC検証をOPCエンジニアが決めた基本的設計上で行わないようにパターンマッチングを使う。これはメモリ設計で有効な技術であって実行時間を改善する。ウエィバー検出を行い,その間検証の実行と除去を行うのでレビューする人は実際のエラーに集中できる。最後に,標準のLITHO検証の前にホットスポット検出を行う。このため,設計者/OPCエンジニアは長時間の検証を待たずに設計/OPCの問題を処理する機会を持てる。

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  *フォトリソグラフィー ,  マッチング ,  補正 ,  パターン形成 ,  近接効果 ,  *検証 ,  ホットスポット ,  ターンアラウンド時間 ,  *パターンマッチング ,  時間
準シソーラス用語： *近接効果補正 ,  実行時間

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： パターンマッチング ,  検証 ,  フロー ,  集積