イットリア安定化ジルコニア薄膜の合成,微細構造,光学的および機械的性質

AMEZAGA-MADRID P.; HURTADO-MACIAS A.; ANTUNEZ-FLORES W.; ESTRADA-ORTIZ F.; PIZA-RUIZ P.; MIKI-YOSHIDA M.

文献

J-GLOBAL ID：201202254326719888 整理番号：12A1262609

イットリア安定化ジルコニア薄膜の合成,微細構造,光学的および機械的性質

Synthesis, microstructural, optical and mechanical properties of yttria stabilized zirconia thin films

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資料名：
巻： 536 号： Supplement 1 ページ： S412-S417 発行年： 2012年09月25日
JST資料番号： D0083A ISSN： 0925-8388 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

イットリア安定化ジルコニア(YSZ)の薄膜は高い熱的,化学的および機械的安定性といった優れた特性を示す。ここでは,エアロゾル支援化学蒸着法によるホウケイ酸ガラスおよび溶融シリカ基板上へのYSZ薄膜の合成について報告する。最適な堆積温度は673±5Kであった。さらに,異なるY濃度を試み,膜の微細構造と特性への影響を解析した。膜は均一,透明で,光散乱は無かった。表面形態および断面微細構造を電界放射走査電子顕微鏡により研究した。膜の微細構造を斜入射X線回折により評価した。結晶子サイズと格子定数を得た。光学特性は反射および透過スペクトルから解析され,これらの測定から光学定数とバンドギャップを得た。膜の小さい粒サイズによる量子閉じ込め効果が,得られた高いバンドギャップエネルギーから証明された。連続的剛性測定法を採用して室温においてナノインデンテーション試験を現実化し,Y濃度の関数として硬度と弾性率を決定した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

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酸化物薄膜 , セラミック材料 , 光物性一般

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